SEMICON China 2026 期间特别技术研讨会
在 SEMICON China 2026 展会现场难以充分展开的技术深度。
限额100席 · 期间限定特别专场。
SEMICON China 2026 将汇聚来自中国及海外的大量工程师、研究人员及管理层人士。
展会现场将集中展示众多最新技术与产品，但在有限的时间内，往往难以深入探讨技术背景、理念及实践经验。
如果您希望在展会的喧嚣之外，留出一段更专注的时间与技术本身深入交流——
本次活动正是为此而设。
在 SEMICON China 2026 期间，深耕半导体工艺技术30余年的 SPT 将于展馆附近举办小规模技术研讨会。
为何选择在 SEMICON 期间举办？
借助 SEMICON China 2026 这一宝贵契机，我们希望在不同于展会现场的安静环境中，创造一个可以进行更高专业度讨论的空间——这正是本次活动的初衷。
在半天的时间里，进一步深化对关键技术的理解。
本研讨会并非展位活动的延伸。
这不是产品目录的讲解，而是围绕技术理念与实践经验展开的深度分享。
本次研讨会亮点
- ● 拥有30余年日本半导体工艺积累的 SPT 技术分享
- ● 来自最前沿 MEMS 领域的特邀嘉宾演讲
- ● 限额100席的小规模形式
- ● 避开展馆拥挤环境的 Networking Lunch
- ● 会后可乘坐接驳巴士前往 SEMICON 展馆
关于 SPT
SPT（SPP Technologies Co., Ltd.）在日本深耕半导体工艺技术领域30余年，积累了丰富的技术经验。
在 MEMS 制造不可或缺的 Si DRIE（硅深反应离子刻蚀）领域，SPT 是全球经验最为丰富的企业之一。
除 Si DRIE 外，在高均匀性 PECVD 设备领域亦具备领先技术实力，并拥有涵盖牺牲层刻蚀设备等先进工艺的完整产品组合。
本次研讨会将基于上述技术背景，分享来自实践的专业视角。
会议概览
| 时间 |
2026年3月25日（周三） 上午场（9:30–12:30 预计） Networking Lunch（12:30–13:30 预计） |
| 地点 |
上海 · 世纪公园附近酒店 （详细地址将在确认参加后通知） |
| 语言 | 中文 |
| 形式 | 线下举办（限额100席） |
会议议程
推荐参加人群
- ● 从事半导体／MEMS 工艺的工程师
- ● 技术开发负责人／研发经理
- ● 计划参加 SEMICON China 2026 的专业技术人员
- ● 希望在展会期间获得更高质量技术交流时间的人士
报名方式
SEMICON China 2026 期间，我们期待与希望专注技术交流的您相见。
本次研讨会限额100席。
如您希望参加，请通过销售咨询页面提交报名申请。
我们将在确认信息后与您联系，收到正式通知后方视为报名成功。
※仅提交表单并不代表报名成功。